前幾天ASML在荷蘭對外展示了自己最新一代的EUV光刻機，也就是High NA EUV光刻機，目前這台光刻機暫時只到達了Intel的芯片工廠，接下來台積電和三星還要購入這款全球最強大的光刻機。以前我們只知道ASML最新的光刻機非常昂貴，但是這次展示讓更多人了解到ASML High NA EUV光刻機的其他一些特點。

首先在價格上，ASML目前對外的售價是3.5億歐元，也就是27億人民幣一套。這當然是個天文數字，普通的芯片代工廠甚至都不敢購買。而且從技術而言，這必須要芯片代工廠在芯片工藝上有極高的造詣，如果是生産5nm以上的芯片，采用這套系統多少有一些得不償失。所以目前來看，Intel、台積電以及三星，都是希望用這台系統來生産2nm甚至更先進的芯片。

從性能來看，最新High-NA EUV設備可在8nm厚的半導體上列印電路，比上代小1.7 倍。電路越細，芯片上可安裝的電晶體越多，當然性能和功耗表現也就更好。目前這套系統已獲得已于去年年底運抵Intel位于俄勒岡州的D1X工廠，Intel預計要在明年才開始使用這套系統生産，而在之前還有很多工作要做。

之所以這麽說，是因爲這套系統實在太過于龐大。按照ASML官方所說，這套系統重量達到15萬公斤，需要用到250個貨箱、250 名工程師，耗時6個月才能徹底裝配完成。所以這次ASML也是大方展示出自己的最新技術成果，完全不用擔心誰來偷師或者複刻，因爲這個系統太複雜龐大，很多部件也是高精制造的成果，即使想複刻都是沒辦法的。

ASML表示，目前的AI需要大量運算能力和資料儲存，如果沒有ASML將無法實現，這也是公司業務一大驅動力。 目前除了Intel在去年12月底運往俄勒岡州廠的一部High NA EUV光刻機之外，ASML上個季度還收到台積電、三星等訂單，而台積電、Intel、三星都對該技術持樂觀態度。

至于早先的上一代EUV光刻機，技術其實也不落後，還是能生産3nm的芯片，未來7nm至3nm大量的芯片用上一代的EUV光刻機顯然更劃算，成本也更低。當然ASML無論是最新的還是上一代的EUV光刻機，都無法銷售到國內，而且國內廠商即使看了ASML的詳細展示，肯定也是無法還原和複刻的，暫時性要做到相對先進的一些工藝，國內廠商還是只能靠花更多成本去多次曝光才能實現。