光刻機大家都知道，那麽大家知道光刻膠的重要性嗎？

曾被美國“拉幫結派”限制中國光刻機進口，再到突破國外“封鎖”，一步步地實現了國産光刻機。中國在這技術上的研究與制造是相當成熟的，但是我們也不能忽略另外一個關鍵性技術——光刻膠。

光刻膠作爲芯片的關鍵材料，全球90%以上的光刻膠生産都掌握在了日本企業手中。倘若中國在這一技術上被日本“卡脖子”又將面臨著什麽樣的困難呢？此外，中國如何應對？

很多人都擔心：我們國家哪怕是掌握了光刻機技術。但是沒有日本的光刻膠也是會“白搭”。

真相是不是如此呢？

那麽，問題來了！

光刻膠與光刻機的關系是什麽？

光刻膠：又稱光致抗蝕劑；

是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

其應用範圍非常的廣泛，例如：制造集成電路、模擬半導體、平面顯示器、光電子器件等領域。其次光刻膠的好壞是可以直接影響芯片制造質量的，一個完整的光刻膠會給芯片帶來更多的效率。

光刻機：

是將目標結構圖要印刷到硅片等基底基底上的機器，相當于照片沖印的過程。

光刻是半導體芯片生産流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。光刻的技術水平也決定了芯片的水平，光刻的技術越高超，那麽芯片的水平還會達到一個新的提升。

其中，光刻機也有很多種分類。

包括：接觸式光刻（掩膜板可直接與光刻膠層接觸）、接近式光刻（掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），大約爲2.5～25 μm）、投影式光刻（掩膜版上的尺寸與光刻膠上的圖案尺寸相同）等。

其實從這裏我們就可以看出光刻膠的重要性了，光刻機是無法離開光刻膠的。而這也給日本很多的底氣，曾一度喊話：“光刻機離不開日本的光刻膠”。還稱，一旦沒有了光刻膠，光刻機就跟“廢鐵”一樣毫無區別。

實際上，日本跟美國沒有任何區別。無論是美國還是日本都想要竭力阻止中國的發展，所以在光刻機與光刻膠上面尤爲的重視。他們不單單是重視這一技術的發展，更重視如何去“針對”中國。

近幾年，美國也沒少與中國的芯片“打交道”。除了美國之外，日本在近幾月前也宣布了加強對半導體制造設備的出口管制。很顯然，日本與美國已經站在了統一戰線，那就是——對中國實施“制裁”。

那麽他們國家的“陰謀”真的會得逞嗎？

說實話，早在中國宣布迎來國産光刻機時，最坐不住的就是荷蘭光刻機巨頭，甚至他們已經出現了後悔的迹象。但這對于我們來說沒有任何意義，因爲國産光刻機已經出現了，所以在這一技術上，我們根本不怕他人“卡脖子”。

更值得一提的是，中國還突破了光刻膠技術，並迎來了ArF光刻膠。這也意味著我們將會減少對日本光刻膠的依賴。國産光刻膠的突破，對于我們來說，既是一場挑戰又是一場機遇。

更值得慶幸的是，國産光刻膠的到來，讓中國在光刻機技術上又得到了一個新的突破以及提升。況且中國在ArF光刻膠方面已經實現了小批量供應，國産化率約爲3%。雖然它的國産化率還達不到50%以上，但這對于我們來說是一個好的開始。

因爲我們國家始終有信心提高國産化率，因爲中國正在一步步的進步著。同時，美日兩國的“陰謀”是不會得逞的。他們想要“針對”中國只會是無用功，他們越是“針對”我們國家，我們國家發展的會越快。

如今，中國ArF光刻膠、光刻機的問世，美日壟斷是否成爲過去式了？

中國在這一發展的道路上是迅速的。在美日兩國想要“對付”我們國家時，我們早就已經找到了解決的辦法。在過去我們可能是處于被動狀態，但如今中國早已經主動出擊了，也就意味著我們不再是被動的，而是主動的。

中國也迎來了屬于自己的光刻機時代，並且突破了關鍵性材料光刻膠，這對于我們來說是一個“質的飛躍”。更是打破了美日的壟斷，使得他們不再利用這一技術來限制中國了。還是那句話：我們從未想過依靠任何人，唯有把碗握在自己手中才能吃飽飯。

我們不光要在光刻機上面有所成就，中國光刻膠也會迎來它的高光時刻，中國在這一領域正在一步步地發展著，沒有任何國家可以阻礙我國的發展，也沒有任何人可以“限制”中國。

最後，我們國家不是非日本的光刻膠不可，我們國家也不是非要荷蘭的光刻機不可。我們始終堅信著唯有自己強大才能真正的走向強大，從一始終我們就不打算依靠任何人或者是任何國家。

當我們沒有那麽成功之時，我們只會不斷地學習他國的知識以及經驗，不斷地提升自我與創新。都知道長久的依賴一個人會發生很大的變化，會讓自己變得越來越“頹廢”，甚至又會回到了“造不如買”的過去。

因此，

中國會一步步的打下堅實的基礎，

中國也會一步步的進步著。

我們不僅要在光刻機領域超越自我，更會在各大領域大放光彩。