最貴的光刻機來了，3.5億歐元

日前，全球光刻機大廠ASML首次在其荷蘭總部向媒體展示了最新一代的High NA EUV光刻機，據稱單台價格3.5億歐元。而三大芯片制造巨頭台積電、三星、英特爾都在搶先訂購這種先進的光刻設備，以搶得2nm以下先進制程大規模量産的通行證。

此前，英特爾已經花費巨資，率先獲得全球首台High NA EUV光刻機。而台積電和三星訂購High NA EUV預計最快2026年陸續到位。可以預見，2026年，將是2納米芯片制程大突破的時代。

那麽，這台單台最貴的光刻機，到底有多大呢？

ASML發言人Monique Mols介紹，一套High NA EUV光刻系統的大小等同于一台雙層巴士，重量更高達150噸，相當于兩架空中客車A320客機，全套系統需要250個貨箱來裝運，裝機時間預計需要250名工程人員、曆時6個月才能安裝完成。

就是這麽一個龐然大物，成了擺在我們面前難以逾越的大山。有錢，買不到，而先進制程芯片，尤其是7納米以下先進制程芯片，更是離不開這種被稱爲極紫外光的EUV光刻機。

看來只能自己造，但一台光刻機的複雜程度又是我們當前難以克服障礙。此前，甚至ASML總裁曾說，就是把圖紙給你們，你們也無法造出合格的光刻機，雖然此話明顯誇大，他們也不可能把圖紙給我們，但此也從另一個側面看出，光刻機的複雜程度。

目前，我們的光刻機水平與國際先進水平還有很大的差距。數據顯示，2022年，我國晶圓廠商半導體設備國産化率提升至35%，但僅能滿足晶圓廠商大部分成熟制程（28nm及以上的邏輯芯片等）以及少部分先進制程的需求。更高精度的芯片，就需要用到更高級的光刻機系統，目前還無法突破這樣的瓶頸。攻克光刻機難關，讓極紫外光EUV光刻機不再成爲我們制造高精度芯片的壁壘，是當前我們頭等大事。

目前，上海微電子是我國唯一可量産光刻機的企業，其90nm DUV光刻機在2016年已經通過驗收，但45nm、28nm光刻機仍在研發過程中尚未量産，亟待突破。

只是，我們攻克EUV光刻機這個難關，還需要多少年？

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