尼康推新光刻機，面向中國市場！

光刻機是中國最核心的一道工序，也是整個半導體行業最弱的一道工序，畢竟我國的光刻技術才剛剛進入90 nm而已。

因此，我們需要持續地從荷蘭與日本引進大批的光刻設備，由于目前世界上，可用于半導體産業制造前道光刻機的，除中國上海微電子外，僅荷蘭 ASML及日本佳能及尼康。

統計數字表明， ASML去年進口的光刻設備將達到600多萬，比2022年翻了三倍還多.......

然而所有人都知道，2024年之後，國內的光刻機就很難再從國外引進了，特別是更加高端的浸沒型光刻機，在美國，日本，荷蘭都徹底取消了對光刻機的出口限制。

如果 ASML，尼康，佳能這些大公司，如果要賣給我們，也要受國家的限制，技術上也不允許有多高的水平。

面對這樣的局面，光刻機生産商又該怎麽做？畢竟中國是一個巨大的市場，不可能就這樣拱手讓人，必須要有銷售渠道才行。

尼康公司的常務副主席近日稱，中國消費者對尼康的平版打印機提出了大量需求。所以，尼康還選擇了“在符合法律規定的情況下拓展其經營範圍”。

你怎樣才能在保證遵守規定的前提下發展你的事業？因此，爲了更好地適應中國市場的需要，本公司采用了一種全新的石印設備，並對其各項技術指標進行了改進。

佳能表示，他們將于今夏發布一款新型I-line光刻機，這也是佳能25年來首次使用I-line光刻機。

從原理上來說，線版印刷已經非常成熟，三十多年來一直被應用在制作250奈米及以上的8吋晶片，也就是早期的微影制程。

中國有制造這種光刻設備的實力，並且我們有90 nm，難道我們還用得著向日本買這種僅能制造250 nm晶片的光刻機？

許多人推測，尼康此次推出的I-line光刻機，絕對不止250 nm，這種光刻技術，我們就算絞盡腦汁，也不一定能找到，說不定還有別的新特性，具體是啥，就讓我們等著看了。