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第一章：真空濺射鍍膜的基礎理論A. 真空濺射的基本原理濺射效應的物理機制濺射效應是一種由高能離子轟擊固體表面引發的物理現
濺射現象是指高能粒子（通常爲離子）轟擊固體材料表面，使該材料的原子從表面脫離的過程。濺射過程中，入射離子將其動能傳遞給靶
濺射鍍膜工藝是一種在材料科學和工程領域中廣泛應用的薄膜制備技術，其過程包括前處理、濺射鍍膜過程和後處理三個主要階段。每個
物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，簡稱PVD）一種用于在基材表面生成薄膜的技術，其基本原
第一章：AR鍍膜的基礎知識AR鍍膜的定義抗反射鍍膜的基本概念抗反射鍍膜（Anti-Reflective Coating，
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類金剛石碳（Diamond-Like Carbon, DLC）具有與金剛石相似的高硬度和優越的機械性能，同時也具備低摩擦
靶材與鍍膜解決方案，爲科技創新賦能
